- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
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- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
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- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
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- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測(cè)等，尤其適合需要多種氣體混合的氣氛環(huán)境的CVD實(shí)驗(yàn)。
雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)產(chǎn)品規(guī)格：
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主要技術(shù)參數(shù) |
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雙 溫 區(qū) 管 式 爐 |
顯示模式 |
7英寸觸摸屏 |
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真空控制 |
可通過參數(shù)設(shè)置，自動(dòng)完成抽真空，恒壓工作 |
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爐管材料 |
高純石英 |
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爐管尺寸 |
直徑：50mm，長度1000mm |
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加熱溫區(qū) |
兩溫區(qū) |
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溫區(qū)長度 |
200mm+200mm |
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工作溫度 |
室溫～1100℃ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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升溫速率 |
建議10℃/min |
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控溫模式 |
可編程程序控溫 |
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密封方式 |
真空法蘭密封 |
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雙通道質(zhì)量流量計(jì) |
氣體通道 |
兩通道 |
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測(cè)量儀器 |
質(zhì)量流量計(jì) |
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A路量程 |
氫氣：0～500SCCM |
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B路量程 |
氬氣：0～1000SCCM |
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連接管道 |
拋光不銹鋼管 |
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氣體緩沖器 |
1000ml |
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工作壓力 |
≦3Mpa |
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工作壓差 |
0.3MPa |
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管道接口 |
6.35mm卡套接頭 |
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真空泵 |
抽氣接口 |
KF25 |
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排氣接口 |
KF25 |
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抽氣速率 |
24立方米/小時(shí) |
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極限真空 |
5.0E-2Pa |
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電機(jī)功率 |
1100W |
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電機(jī)轉(zhuǎn)速 |
1440轉(zhuǎn)/分鐘 |
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真空計(jì) |
傳感器類型 |
皮拉力 |
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真空量程 |
1.0E-1Pa～1.0E5Pa |
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安裝方式 |
豎直放置 |
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工作電壓 |
DC24V |
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相關(guān)配件 |
連接管道 |
KF25波紋管1米長 |
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聚四氟管5米 |
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石英爐管1根 |
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爐管塞子4個(gè) |
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爐鉤1支 |
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防護(hù)手套1雙 |
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真空法蘭1套（帶密封圈、針閥、氣路接頭） |
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