產(chǎn)品分類(lèi)
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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多功能粉體包覆磁控鍍膜... 該設(shè)備主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備（磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜）及熱處理等，?于改善粉體或顆粒的表?性...
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四探針薄膜厚度測(cè)試儀 四探針測(cè)試儀用于半導(dǎo)體、薄膜、導(dǎo)電涂層等材料的電學(xué)性能測(cè)試。四探針薄膜厚度測(cè)試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，...
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旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀 旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導(dǎo)電...
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桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
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桌面型鋁合金腔體單靶磁... 桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜
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矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜沉積的高精度設(shè)備
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D型腔體單靶直流磁控濺... 直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等
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離子源雙靶磁控濺射鍍膜... 離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，兩臺(tái)射頻電源，可用于制備單層...
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桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...
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粉末磁控濺射鍍膜儀 粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備，利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
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桌面型磁控濺射鍍膜儀下... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，...
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桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，...
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高真空三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...
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分體式高真空三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...
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分體式高真空雙靶磁控濺... 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛...
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桌面型單靶直流磁控濺射... 單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
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桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備...
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高真空4英寸三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等
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下置四靶磁控濺射鍍膜儀 四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜
