- 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機(jī)
 - 涂布機(jī)
 - 等離子清洗機(jī)
 - 放電等離子燒結(jié)爐
 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機(jī)
 - 快速退火爐
 - 晶體生長爐
 - 真空管式爐
 - 旋轉(zhuǎn)管式爐
 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機(jī)
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 立式管式爐
 - 1200管式爐
 - 高溫真空爐
 - 氧化鋯燒結(jié)爐
 - 高溫箱式爐
 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
 - 石墨烯制備
 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結(jié)爐
 - 粉末壓片機(jī)
 - 真空手套箱
 - 真空熱壓機(jī)
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
 - 高性能真空泵
 - 質(zhì)量流量計(jì)
 - 真空法蘭
 - 混料機(jī)設(shè)備
 - UV光固機(jī)
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
 - 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
 - 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    
	矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜沉積的高精度設(shè)備。其核心原理是通過在真空環(huán)境下,利用高能離子轟擊靶材,使靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片表面,形成均勻的薄膜。該設(shè)備采用矩形腔室設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,且配備過渡艙,便于樣品的裝載和卸載,減少對(duì)主腔室真空環(huán)境的干擾,提高鍍膜效率和質(zhì)量。
	過渡艙的設(shè)計(jì)使得設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),特別適用于需要高真空環(huán)境和多批次處理的鍍膜工藝.
磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域:
	
	1.光學(xué)薄膜
	用于制備增透膜、反射膜、濾光片等光學(xué)器件。
	應(yīng)用于鏡頭、激光器、太陽能電池等領(lǐng)域。
	2.電子器件
	用于半導(dǎo)體器件、集成電路、顯示面板(如OLED、LCD)的金屬或介質(zhì)薄膜沉積。
	制備導(dǎo)電層、絕緣層或保護(hù)層。
	3.裝飾與功能性涂層
	用于手表、手機(jī)外殼等裝飾性鍍膜(如金屬光澤、彩色涂層)。
	功能性涂層如耐磨、耐腐蝕、防指紋等。
	4.能源領(lǐng)域
	用于太陽能電池、燃料電池的電極或催化層制備。
	薄膜鋰電池的電極材料沉積。
	5.科研領(lǐng)域
	用于新材料開發(fā)、薄膜性能研究(如磁性薄膜、超導(dǎo)薄膜等)。
磁控濺射鍍膜儀產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):
	
	1.高效率
	Load-Lock系統(tǒng)顯著縮短了樣品更換時(shí)間,提高了設(shè)備利用率。
	2.高薄膜質(zhì)量
	真空度高,污染少,薄膜純度高,附著力強(qiáng)。
	均勻性好,適合大面積鍍膜。
	3.多功能性
	支持多種靶材(金屬、合金、陶瓷等)和反應(yīng)氣體,可制備多種功能薄膜。
	兼容DC、RF等多種濺射模式。
	4.自動(dòng)化與智能化
	配備先進(jìn)的控制系統(tǒng),支持參數(shù)預(yù)設(shè)、過程監(jiān)控和數(shù)據(jù)記錄。
	操作簡便,適合科研和工業(yè)生產(chǎn)。
	5.可靠性高
	設(shè)備結(jié)構(gòu)穩(wěn)定,維護(hù)成本低,使用壽命長。
	6.環(huán)保與**
	采用封閉式設(shè)計(jì),減少氣體泄漏和環(huán)境污染。
	符合工業(yè)**標(biāo)準(zhǔn)。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
	
	 
						產(chǎn)品名稱
					 
						矩形腔室磁控濺射鍍膜儀帶過渡艙
					 
						Load Lock腔體
					 
						? 300 *180 mm
					 
						磁控DC濺射電源
					 
						Max. 500W
					 
						樣品臺(tái)
					 
						8英寸樣品臺(tái)??梢詫?shí)現(xiàn)樣品臺(tái)自動(dòng)上下升降(可調(diào)范圍不低于40mm),以及樣品臺(tái)的旋轉(zhuǎn)(速度 0-60 RPM可調(diào))
					 
						流量計(jì)
					 
						100 SCCM Ar/N2
					 
						靶槍數(shù)量
					 
						2個(gè)3英寸靶槍,配備獨(dú)立擋板
					 
						泵組抽速
					 
						>7m3/h 干泵+250
  L/S 分子泵
					
		
			
				 
		
		
			
					 
				
					 
			
				 
			
					 
				
					 
			
				 
			
					 
				
					 
			
				 
			
					 
				
					 
			
				 
			
					 
				
					 
			
				 
			
					 
				
					 
			
				 
		
	
					 
				
					 
			
    
    
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            