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產(chǎn)品列表
  • 單靶等離子濺射鍍膜儀(... 本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高...
  • 單靶等離子濺射鍍膜儀(... 本型號小型等離子濺射儀,采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高...
  • 四噴頭超聲波勻膠機旋涂... 四噴頭超聲波勻膠機是一種面向未來的gaoduan微納加工設(shè)備。它解決了傳統(tǒng)勻膠技術(shù)在三維、異質(zhì)集成和昂貴材料應(yīng)用中的根本...
  • 全自動勻膠機旋涂儀 全自動勻膠機旋涂儀是一種基于離心力原理的精密涂覆設(shè)備,通過程序化控制基片旋轉(zhuǎn)速度、加速度和時間,實現(xiàn)液體材料(如光刻膠、...
  • 光刻膠烤膠機 光刻膠烤膠機在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
  • 8英寸晶圓烤膠機 8英寸晶圓烤膠機在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
  • 12英寸聚四氟腔體防腐... 本產(chǎn)品為旋涂儀也稱勻膠機,是利用高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力來涂覆膜料的設(shè)備。本型號采用工業(yè)級大功率伺服電機,可實現(xiàn)更好的穩(wěn)定性...
  • 擺臂勻膠機旋涂儀 擺臂勻膠機主要利用離心涂覆原理將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,該工藝在材料研究領(lǐng)域有著廣泛...
  • 全自動勻膠機旋涂儀 旋涂儀是一種實驗室設(shè)備,主要用于制備薄膜材料,其應(yīng)用范圍包括制備太陽能電池,制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
  • 12寸防腐勻膠機旋涂儀 12寸防腐勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基...
  • 亞克力八英寸勻膠機帶蠕... 勻膠機可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
  • 凈化旋涂儀帶加熱臺 凈化型勻膠機廣泛用于半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等,例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時,可用此設(shè)備進行各種膠體的表面涂覆...
  • 1000MM勻膠機旋涂... 勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的儀器,廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)等領(lǐng)域。它的主要工作原理是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,利用離...
  • 托盤定位勻膠機旋涂儀 勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...
  • PP腔體旋涂儀 旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜。主要用于光刻膠旋涂、生物介質(zhì)制備、溶膠-凝膠法制...
  • 不銹鋼腔體勻膠機 勻膠機是一種用于制備薄膜的儀器,廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)等領(lǐng)域。它的主要工作原理是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,利用離心力使...
  • 大型勻膠機旋涂儀 本設(shè)備為大型勻膠機,采用大功率伺服電機,配合高精度驅(qū)動器,可實現(xiàn)對大尺寸樣品的**勻膠實驗
  • 八英寸聚四氟腔體防腐旋... 勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...
  • 不銹鋼腔體八英寸勻膠機... 勻膠機可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
  • 全自動多層鈣鈦礦旋轉(zhuǎn)涂... 全自動多層鈣鈦礦旋轉(zhuǎn)涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜,半導(dǎo)體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝
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