- 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機(jī)
 - 涂布機(jī)
 - 等離子清洗機(jī)
 - 放電等離子燒結(jié)爐
 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機(jī)
 - 快速退火爐
 - 晶體生長(zhǎng)爐
 - 真空管式爐
 - 旋轉(zhuǎn)管式爐
 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機(jī)
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 立式管式爐
 - 1200管式爐
 - 高溫真空爐
 - 氧化鋯燒結(jié)爐
 - 高溫箱式爐
 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
 - 石墨烯制備
 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結(jié)爐
 - 粉末壓片機(jī)
 - 真空手套箱
 - 真空熱壓機(jī)
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
 - 高性能真空泵
 - 質(zhì)量流量計(jì)
 - 真空法蘭
 - 混料機(jī)設(shè)備
 - UV光固機(jī)
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
 - 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
 - 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    碳納米管的制備方法
	      制備碳納米管的過(guò)程中如果不使用催化劑,產(chǎn)物就只有無(wú)定形碳,只有加入催化劑后生成物才含有大量的單、多壁碳納米管。
 常見(jiàn)的催化劑種類主要是金屬單質(zhì)和化合物。
 過(guò)渡金屬Fe、Co、Ni、Mo等
 碳在催化劑中的溶解度決定了催化劑的催化性能,溶解度越大催化性能越強(qiáng)。
 如果用CO做為碳源的話,CO可以在鐵或者鎳或者是鈷上發(fā)生解離式吸附,生成C,從而才能成為碳管。如果是其它的金屬,CO多數(shù)發(fā)生線式吸附,無(wú)法解離生成C,自然也無(wú)法長(zhǎng)成碳材料。  
	
電弧放電法
       此法是以含有催化劑的石墨棒作為陽(yáng)極,純石墨棒作為陰極,在充有一定惰性氣體、氫氣或其他氣體的低壓電弧室內(nèi),通過(guò)電極間產(chǎn)生3000℃以上的連續(xù)電弧,使石墨與催化劑完全氣化蒸發(fā)生成碳納米管。 
	
化學(xué)氣象沉積法
      此法是在一定溫度下,在催化劑的作用下裂解含碳?xì)怏w或液體碳源,從而生成碳納米管,故此法又稱催化裂解法,具有設(shè)備簡(jiǎn)單,成本低,產(chǎn)量大等優(yōu)點(diǎn),缺點(diǎn)是石墨化程度不高,雜質(zhì)多。催化劑一般為過(guò)渡金屬,碳源可以是甲烷、CO、乙烯等含碳?xì)怏w,也可是苯、甲苯等液體。
	
化學(xué)氣相沉積發(fā)制備CNT的裝置簡(jiǎn)圖
	
激光蒸發(fā)法
      將摻雜Fe、Co、Ni等過(guò)渡金屬的石墨靶材,在反應(yīng)溫度1200℃下,在惰性氣體(He)保護(hù)下用激光轟擊靶材表面制備碳納米管。此法優(yōu)點(diǎn)是制備的碳納米管純度高,易于連續(xù)生產(chǎn),但能耗高、實(shí)驗(yàn)設(shè)備復(fù)雜、制備成本高,不適合大規(guī)模生產(chǎn)。
      將一根金屬催化劑、石墨混合的石墨靶放置于一長(zhǎng)方形石英管中間,該管則置于一加熱爐內(nèi)。當(dāng)爐溫升至1200℃時(shí)將惰性氣體充入管內(nèi),并將一束激光聚焦于石墨靶上。石墨靶在激光照射下生產(chǎn)氣態(tài)碳,氣態(tài)碳和催化劑離子被氣流從高溫區(qū)帶到低溫區(qū),在催化劑作用下生長(zhǎng)成單壁納米管。 
    
    