產(chǎn)品分類
    - 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機
 - 涂布機
 - 等離子清洗機
 - 放電等離子燒結爐
 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機
 - 快速退火爐
 - 晶體生長爐
 - 真空管式爐
 - 旋轉管式爐
 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 立式管式爐
 - 1200管式爐
 - 高溫真空爐
 - 氧化鋯燒結爐
 - 高溫箱式爐
 - 箱式氣氛爐
 - 高溫高壓爐
 - 石墨烯制備
 - 區(qū)域提純爐
 - 微波燒結爐
 - 粉末壓片機
 - 真空手套箱
 - 真空熱壓機
 - 培育鉆石
 - 二硫化鉬制備
 - 高性能真空泵
 - 質量流量計
 - 真空法蘭
 - 混料機設備
 - UV光固機
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗設備
 - 實驗室產(chǎn)品配件
 - 實驗室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    
                            產(chǎn)品詳情
                        
                        
            簡單介紹:
        
        
            碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射,它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理,碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合鍍膜儀采用機械泵和分子泵,實現(xiàn)高真空。
        
    
            詳情介紹:
        
        ○ 產(chǎn)品介紹
TN-PEC250G-HV碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射,它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理。通過更換功能套件,設備可以在多種功能間快速切換,非常適合實驗室制作SEM樣品使用。本儀器裝有機械泵和分子泵,能夠滿足多種真空度要求,尤其能夠實現(xiàn)高真空,能夠有效提高鍍膜質量。
○ 適用范圍
實驗室鍍膜使用。
○ 技術參數(shù)
| 
				真空腔體 | 
			
				 高純石英,鐘罩狀,φ250x340mm | 
		
| 
				蒸發(fā)腔體  | 
			
				 高純石英,鍍罩狀,帶側面開孔,尺寸φ88x150mm | 
		
| 
				等離子濺射腔體 | 
			
				 高純石英,鍍罩狀,帶側面開孔,尺寸φ88x150mm | 
		
| 
				 
					 
					  | 
			
				 等離子濺射套件 濺射電壓1600V 
					*大電流50mA
				 
 
				
					靶面尺寸2英寸 
				 
 
				
					工作真空10Pa~20Pa
				 
 
				
					工作氣氛需通入高純氬氣 
				 
			 | 
		
| 
				 
					 熱蒸發(fā)鍍膜套件 蒸發(fā)源數(shù)量2個 
					*大電流100A
				 
 
				
					工作真空10^-3Pa
				 
 
				
					工作氣氛不通入任何氣體
				 
 
				
					樣品臺直徑φ60mm,可旋轉 
				 
 
				
					  | 
			
				 
					   | 
		
| 
				 
					 
					  | 
			
				 碳蒸發(fā)套件 蒸發(fā)方式碳棒蒸發(fā) 
					*大電流160A
				 
 
				
					工作真空10^-3Pa 
				 
 
				
					工作氣氛不通入任何氣體
				 
 
			 | 
		
| 
				真空系統(tǒng) | 
			
				 產(chǎn)品型號TN-GZK103-A 分子泵渦輪分子泵 前極泵雙極旋片泵 抽氣速率分子泵:600L/S綜合抽氣性能:30分鐘真空度可達:5×10E-3Pa 旋片泵:1.1L/S 極限真空5×10E-4Pa 抽氣接口KF40 排氣接口KF16 真空測量復合真空計  | 
		
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				進氣系統(tǒng) | 
			
				 配有手動微調(diào)閥,接口為1/4英寸卡套接頭 | 
		
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				供電要求 | 
			
				 AC 220V 50Hz | 
		
○免責聲明
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