- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
高純氫氣機(jī)采用新型長(zhǎng)壽命多層 PEM 電解單元 ，不使用酸性或堿性溶液。 **的 PSA 氫氣干燥模塊確保*高等級(jí)的氫氣純 度，完全免維護(hù)。 自動(dòng)檢查內(nèi)部泄漏并持續(xù)控制運(yùn)行參數(shù) ，以確 保**。
LCD 觸控屏界面對(duì)所有功能單元提供了方便及簡(jiǎn)單 的操作
高純氫氣機(jī)主要應(yīng)用于：
氫燃料 電池加氫， CVD鉆石培育， 多臺(tái)GC集中供氣。
高純氫氣機(jī)特點(diǎn)優(yōu)勢(shì)：
1. 使用簡(jiǎn)單和安裝快速
2.氫氣*大流量 4000 cc/ min
3.壓力高達(dá) 16 ba r (232 psi)
4.氫氣純度：99.99999°/o
5.標(biāo)配 RS 485, RS 232 和 USB
6 .PSA 氫氣干燥模塊 ，免維護(hù)
7 . 自我監(jiān)控程序 ，保證**
8 .**電子控制的高壓氣液分離器
型號(hào)參數(shù)：
|
型號(hào) |
4000 |
4000LN |
|
電解單元 |
PEM技術(shù) |
|
|
干燥系統(tǒng) |
PSA （變壓吸附） / TSA （變溫吸附） |
|
|
氫氣純度 |
>99.99999°/o * 1 |
|
|
出口壓力 |
12 bars (174 psi) / 16 bars (232 psi) （可選） |
|
|
氫氣流量 （*大） |
4000m l/ min |
|
|
尺寸 |
44.5 x 66 x 61.5 cm |
|
|
凈重 （無水） |
52 kg |
53 kg |
|
N2含量 |
3 ppm |
<1ppm |
|
通信 |
RS232/ RS485/USB |
|
|
供應(yīng)壓力 （*小，*大） |
O bars (O osi),0.5 bar (7.25 osi) |
|
|
流速 |
0.25l/ h |
|
|
內(nèi)部水箱容量 |
20L |
|
|
連接類型 |
IEC320-C14 |
|
|
電源 |
100-240V ac （ 士 10°/o) 50/60 Hz |
|
|
功率 （*大） |
1450W |
|
|
電流 （5x20m m) |
6.3A (250VAC - T) |
|
|
氫氣出口 |
1/ 8” |
|
|
水 （入 口、排水口） |
快插接頭 |
|
