- 磁控濺射鍍膜儀
 - 熱蒸發(fā)鍍膜儀
 - 高溫熔煉爐
 - 等離子鍍膜儀
 - 可編程勻膠機
 - 涂布機
 - 等離子清洗機
 - 放電等離子燒結(jié)爐
 - 靜電紡絲
 - 金剛石切割機
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 - 真空管式爐
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 - PECVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 熱解噴涂
 - 提拉涂膜機
 - 二合一鍍膜儀
 - 多弧離子鍍膜儀
 - 電子束,激光鍍膜儀
 - CVD氣相沉積系統(tǒng)
 - 立式管式爐
 - 1200管式爐
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 - 氧化鋯燒結(jié)爐
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 - 箱式氣氛爐
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 - 區(qū)域提純爐
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 - 真空手套箱
 - 真空熱壓機
 - 培育鉆石
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 - 高性能真空泵
 - 質(zhì)量流量計
 - 真空法蘭
 - 混料機設(shè)備
 - UV光固機
 - 注射泵
 - 氣體分析儀
 - 電池制備
 - 超硬刀具焊接爐
 - 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
 - 實驗室產(chǎn)品配件
 - 實驗室鍍膜耗材
 - 其他產(chǎn)品
 
    高低溫低氣壓試驗箱適用于航空、航天、通信、信息、電子、電氣等領(lǐng)域,將溫度、高度、與可選的濕度相結(jié)合,用于同時進行環(huán)境測試
高低溫低氣壓試驗箱技術(shù)參數(shù):
| 
					 溫度范圍  | 
				
					 -70℃~+150℃  | 
			
| 
					 溫度波動度/均勻度  | 
				
					 波動度:±0.5℃;均勻度:±2℃  | 
			
| 
					 環(huán)境溫度  | 
				
					 ﹤95%RH  | 
			
| 
					 冷卻速度  | 
				
					 平均≥1℃/min  | 
			
| 
					 加熱速度  | 
				
					 平均1℃/min  | 
			
| 
					 濕度范圍  | 
				
					 20%~98%RH  | 
			
| 
					 濕度波動度/均勻度  | 
				
					 波動度:±2.5℃;均勻度:±3℃  | 
			
| 
					 壓?范圍/精度  | 
				
					 范圍:50.5KPa~101.5KPa;精度:±5%  | 
			
| 
					 壓?控制辦法  | 
				
					 ?法A:1.加熱/冷卻?設(shè)定溫度;2.抽真空?低壓;?法B:1.抽真空?低壓;2.加熱/冷卻?設(shè)定溫度; ?法C:1.加熱/冷卻?設(shè)定溫度同時抽真空?低壓  | 
			
| 
					 冷卻?式  | 
				
					 ?冷  | 
			
| 
					 加熱?式  | 
				
					 電?  | 
			
| 
					 壓縮機  | 
				
					 德國博客半封閉制冷系統(tǒng)  | 
			
    
    
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            
                            