CY-MSP300S-3RF三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)為我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，設(shè)備可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。

設(shè)備經(jīng)過(guò)緊湊化設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了體積與性能的平衡，造型美觀(guān)功能齊全。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡(jiǎn)單易上手，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	明細(xì)
產(chǎn)品型號(hào)	CY-MSH300-III-RFRFRF-SS
供電電壓	AC220V，50Hz
整機(jī)功率	4KW
系統(tǒng)真空	≦5×10-4Pa
樣品臺(tái)	尺寸	φ140mm
	控溫精度	±1℃
	加熱溫度	*高500℃
	轉(zhuǎn)速	1-20rpm可調(diào)
磁控濺射頭	數(shù)量	2” x3 （1”,2”可選）
	水冷機(jī)規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
	冷卻方式	水冷
真空腔體	腔體尺寸	Dia.300mm×300mm
	觀(guān)察窗口	φ100mm
	開(kāi)啟方式	上頂開(kāi)式
	腔體材料	不銹鋼
質(zhì)量流量計(jì)	2路；量程100sccm；100sccm（可根據(jù)客戶(hù)需要定制多路氣路）
真空系統(tǒng)	產(chǎn)品型號(hào)	CY-GZK103-A
	抽氣接口	CF160
	分子泵	CY-600
	排氣接口	KF40
	前極泵	旋片泵
	真空測(cè)量	復(fù)合真空計(jì)
	極限真空	1.0E-5Pa
	供電電源	AC;220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達(dá)： 1.0E-3Pa
電源配置	數(shù)量	射頻電源 x3
	*大輸出功率	射頻電源500W
膜厚測(cè)量	可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
控制系統(tǒng)	CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)
整機(jī)尺寸	600mm X 650mm X 1280mm
整機(jī)重量	300kg